TFT液晶顯示屏制程工藝有以下幾局部：在 TFT 基板上構成 TFT 陣列；在彩色濾光片基板上構成彩色濾光圖案及 ITO 導電層；用兩塊基板構成液晶盒；裝置外圍電路、組裝背光源等的模塊組裝。
1. 在TFT基板上構成TFT 陣列的工藝
現(xiàn)已完成產(chǎn)業(yè)化的 TFT 類型包括：非晶硅 TFT （ a-Si TFT ）、多晶硅 TFT （ p-Si TFT ）、單晶硅 TFT(c-Si TFT) 幾種。目前運用多的仍是 a-Si TFT 。
a-Si TFT 的制造工藝是先在硼硅玻璃基板上濺射柵極資料膜，經(jīng)掩膜曝光、顯影、干法蝕刻后構成柵極布線圖案。普通掩膜曝光用步進曝光機。第二步是用 PECVD 法停止連續(xù)成膜，構成 SiNx 膜、非摻雜 a-Si 膜，摻磷 n+a-Si 膜。然后再停止掩膜曝光及干法蝕刻構成 TFT 局部的 a-Si 圖案。第三步是用濺射成膜法構成透明電極（ ITO 膜），再經(jīng)掩膜曝光及濕法蝕刻構成顯現(xiàn)電極圖案。第四步柵極端部絕緣膜的接觸孔圖案構成則是運用掩膜曝光及干法蝕刻法。第五步是將 AL 等停止濺射成膜，用掩膜曝光、蝕刻構成 TFT 的源極、漏極以及信號線圖案。用 PECVD 法構成維護絕緣膜，再用掩膜曝光及干法蝕刻停止絕緣膜的蝕刻成形， ( 該維護膜用于對柵極以及信號線電極端部和顯現(xiàn)電極的維護 ) 。至此，整個工藝流程完成。
TFT 陣列工藝是 TFT-LCD 制造工藝的關鍵 , 也是設備投資的局部。整個工藝請求在很高的凈化條件（例如 10 級）下停止。
2. 在彩色濾光片（ CF ）基板上構成彩色濾光圖案的工藝
彩色濾光片著色局部的構成辦法有染料法、顏料分散法、印刷法、電解堆積法、噴墨法。目前以顏料分散法為主。
顏料分散法的第一步是將顆粒平均的微細顏料（均勻粒徑小于 0.1 μ m ） (R 、 G 、 B 三色 ) 分散在透明感光樹脂中。然后將它們依次用涂敷、曝光、顯影工藝辦法，依次構成 R. G. B 三色圖案。在制造中運用光蝕刻技術，所用安裝主要是涂敷、曝光、顯影安裝。
為了避免漏光，在 RGB 三色接壤處普通都要加黑矩陣（ BM ）。以往多用濺射法構成單層金屬鉻膜，如今也有改用金屬鉻和氧化鉻復合型的 BM 膜或樹脂混合碳的樹脂型 BM 。
此外，還需求在 BM 上制做一層維護膜及構成 IT0 電極 , 由于帶有彩色濾光片的基板是作為液晶屏的前基板與帶有 TFT 的后基板一同構成液晶盒。所以必需關注好定位問題，使彩色濾光片的各單元與 TFT 基板各像素相對應。
3. 液晶盒的制備工藝
首先是在上下基板外表分別涂敷聚酰亞胺膜并經(jīng)過摩擦工藝，構成可誘導分子按請求排列的取向膜。之后在 TFT 陣列基板周邊布好密封膠資料，并在基板上噴灑襯墊。同時在 CF 基板的透明電極末端涂布銀漿。然后將兩塊基板對位粘接，使 CF 圖案與 TFT 像素圖案逐個對正，再經(jīng)熱處置使密封資料固化。在印刷密封資料時，需留下注入口，以便抽真空灌注液晶。
近年來 , 隨著技術進步和基板尺寸的不時加大 , 在盒的制做工藝上也有很大的改良 , 比擬有代表性的是灌晶方式的改動 , 從原來的成盒后灌注改為 ODF 法 , 即灌晶與成盒同步停止。另外 . 墊襯方式也不再采用傳統(tǒng)的噴灑法 , 而是直接在陣列上用光刻法制造。
4. 外圍電路、組裝背光源等的模塊組裝工藝
在液晶盒制造工藝完成后，在面板上需求裝置外圍驅動電路，再在兩塊基板外表貼上偏振片。假如是透射型 LCD. 還要裝置背光源。
資料和工藝是影響產(chǎn)品性能的兩個主要要素，TFT-LCD 經(jīng)過上面四道主要制程，大量冗雜的制造工藝才構成我們所看到的產(chǎn)品。
賀先生